第五百六十四章 打破瓦森纳协定的封锁 (第6/10页)

换用157纳米的f2激光，这样就能解决问题了。

    而为了对抗尼康成立的euvllc联盟则押注更激进的极紫外技术，将光源切换成十几纳米的极紫外光，这样不仅仅能解决现有的问题，还能一直用到以后，刻十纳米以下的芯片制程都没问题。

    但是，这两种技术都不容易，都面临着技术难关，这就是九十年代最出名的193纳米关卡！

    凡是遇到难关的时候，总是有天才出现的，现在也不例外，一个名叫林本坚的鬼才工程师出现了。

    当光线透过水之后，频率不变，但是波长会发生变化，这就是水的折射率，所以，只要在光刻机的光源和硅片之间加一层水，让原本的193纳米的激光发生一次折射，不就能大大地降低了吗？

    简单计算就能知道，波长会降低到132纳米！

    这样，不仅仅能降低了光刻机的波长，刻蚀更加精密的电路，而且，对机器的改动还最小！

    以前的就叫做干刻法，现在可以叫做湿刻法了！

    林本坚提出来了这项技术，兴致勃勃地跑出去推销，但是，全部都吃了闭门羹！

    美国、德国、日本，一个个的光刻机巨头，面对着这个说法都是嗤之以鼻：在精密的机器中加入水，成为一个浸润环境，就不怕水漏了吗？短期来看，这个办法可能会成功，但是长期来看，根本就是在走弯路！

    尤其是巨头尼康，决定在157纳米的光源上研究，根本就不搭理林本坚这种歪门邪道。

    就像是数码相机一样，当年柯达首先研制出来数码相机，但是害怕因此威胁到胶片的生意，所以他们采用的办法就是将数码相机藏起来，不让别人知道！

    尼康在