第五百六十四章 打破瓦森纳协定的封锁 (第9/10页)



    “你们听说过湿刻法吗？或者叫做浸润法？”秦涛提出了这条技术路线。

    “秦总，这个方法并不是主流的，属于旁门左道，就算是解决了现在的193纳米光源的问题，也无法继续解决以后的问题，毕竟芯片制程需要不断的更新。”徐端义说道。

    这也是几乎整个光刻机领域的工程师对林本坚的看法了，你这纯粹就是歪门邪道啊！….“但是，这种方式更有可能以小博大。”秦涛说道：“各位，不知道你们想过没有，就算是以后有了更先进的光源，但是照样会遇到制程问题，而这种方法还能继续使用啊！”

    就拿尼康孜孜不倦地钻研的157纳米的光源相比，如果再借助这种湿刻法，那光源一下子就降低到100纳米以下了啊！

    “秦总，您认为这条路可行？”徐端义认真地问道。

    “没错，我们先不用考虑后期的问题，我们首先要考虑的就是如何在短期内达到世界主流水平，我们已经不可能从国外获得先进的光刻机了，但是我们的芯片产业不能崩，我们的龙芯一旦无法继续发展下去，那很可能会被市场淘汰，我们不可能交给别人代工，所以我们必须要有先进的光刻机，不管是什么技术路线，是否走旁门左道。大领导有句话说得很好，不管是白猫黑猫，抓住老鼠就是好猫。”

    徐端义点头：“秦总，我理解您的紧迫性，如果要是使用这种技术的话，那就能使用我们现有的193纳米的光源，我们需要的镜头，可以请华亭光学仪器厂帮忙打磨，我们还真能继续向前走一大步，不过…”

    “不过什么？”秦涛问道。

    “首先，研发先进的光刻机需要大量的资金作为后盾。”徐端义说道：“现